Hochreines Kupfer für die Plattform EOS M 290, um eine gute elektrische und thermische Leitfähigkeit zu erreichen. Geeignet für eine Vielzahl von Anwendungen.
Bauteildesign von Delva Oy, hergestellt aus Kupfer Cu
Die chemische Zusammensetzung entspricht ca. 99,6% reinem
Höchstzugkraft 190 MPa
Streckgrenze 140 MPa
Bruchdehnung 20%
Elektrische Leitfähigkeit im wärmebehandelten Zustand >90% IACS
Wärmetauscher
Elektronik
Verschiedene industrielle Anwendungen, die eine gute Leitfähigkeit erfordern
