EOS Nickel NiCP

Geeignet für
EOS M 290 @ 80 µm,
EOS M 400-4 @ 80 µm

Hohe Reinheit
Hohe Duktilität
Gute Korrosionsbeständigkeit
Zugfestigkeit von 400 MPa und 49% Dehnung

Material-Datenblatt

Prozess-Datenblatt

Sicherheitsdatenblätter finden Sie auf myEOS

Beschreibung

EOS Nickel NiCP ist eine handelsübliche reine Nickellegierung mit einem Reinheitsgrad von mindestens 99,0 %. Der hohe Reinheitsgrad bietet eine hervorragende Korrosionsbeständigkeit und eignet sich daher gut für den Einsatz in der Chemie- und Halbleiterindustrie. Mit einer Zugfestigkeit von 400 MPa und einer Dehnung von 49 % ist es eine ausgezeichnete Wahl für Anwendungen wie Gasinjektoren und korrosionsbeständige Komponenten in Halbleiter-Kapitalanlagen.

 

MEHR ERFAHREN über EOS Metall-Lösungen

Die Zusammensetzung des Pulvers und der gefertigten Teile entspricht den Anforderungen an die chemische Zusammensetzung nach ASTM B162 und SAE AMS5553.

Zugfestigkeit: 400 MPa
Streckgrenze: 245 MPa
Dehnung @ Bruch: 49%

Teile für die Halbleiterherstellung
Teile für die chemische Industrie

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